半導體純水系統技術應用 成為行業用水重中之重
時間：2022-10-17
半導體行業是一個高能耗的行業。在半導體產品制造過程中，由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水系統的使用要求更高。
在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需要進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件性能下降、影響產品性能。因此，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技術。
超純水既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。
超純水處理是一般工藝很難達到的程度，萊特萊德采用預處理、反滲透技術、靶向離子交換系統以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。
半導體業由于技術發展迅速、市場變化大，其生產能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水系統要有一定的可調節性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水系統投入運行后，能夠生產出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水提供用水保障。
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