淺析硅晶圓生產為何需要應用超純水設備？
前言：熟悉半導體領域的人都會了解硅晶圓，硅晶圓是半導體的核心，也是成本占比最高的材料，對純度也有超高要求，是一種為了制成半導體積體電路的原材料。本文淺析一下硅晶圓生產為何需要應用超純水設備。
硅晶圓作為半導體的核心部件，其在制造過程中需要應用超純水設備的原因有以下幾點：
1.對于清潔度的要求。硅晶圓制造過程中對水質清潔度要求非常高。普通水中的雜質和離子可能會影響到硅晶圓的品質和性能，因此需要使用超純水來清洗和加工硅晶圓。
2.制作中需要使用表面活性劑來清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。這些表面活性劑對水的純凈度要求非常高，應用高度純凈的超純水，使表面活性劑能夠充分發揮作用，有效清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。
3.生產效率在硅晶圓制造過程中，使用超純水設備可以顯著提高生產效率。高度純凈的超純水可以快速蒸發，使硅晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產周期和提高生產效率。
簡而言之，就是為了提高硅晶圓質量需要使用超純水設備。我國雖然半導體材料產業起步較晚，但是發展比較迅猛。那么什么樣的超純水設備才能產出高質量的超純水呢？
目前常見的超純水設備核心工藝為“預處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。該超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行時間長等優點。這樣的超純水設備在運行時是不需要添加任何化學品的，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統運行費用。并且設備不會有酸堿廢液產生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下產出的濃水完全可以回收再利用，并且采用的設計結構相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間。
超純水設備可以更好的，連續的，穩定地制備高品質的超純水，完全符合硅晶圓生產用水水質標準。隨著我國科技半導體產業的不斷發展與壯大，對于硅晶圓的產出質量要求也會越來越高，所以對于使用超純水設備要求也會提高，這也將帶動相關產業的發展。
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編輯：新奇 技術：加菲
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